Интервью с Николаем Алексеевичем Шелепиным, д.т.н., руководителем научного направления микроэлектроники, Институт нанотехнологий микроэлектроники РАН, в ежегоднике "Живая электроника России 2025"

В одном из своих недавних интервью вы высказали мысль о том, что для удовлетворения насущных потребностей российского рынка микроэлектронным компаниям не требуются самые современные фотолитографы – достаточно освоить диапазон от 180 до 40 нм и создать задел на будущее. Как в этой связи вы относитесь к заявлению представителя Минпромторга на форуме «Микроэлектроника 2023» о том, что к 2027 г. в России будет освоено серийное производство микропроцессоров по 28-нм нормам на 300-мм пластинах?

-Судя по многочисленным сведениям, почерпнутым из СМИ, план освоения 28-нм технологии на пластинах диаметром 300 мм в 2027 г. действительно существовал и имел основания на успех. Этот план составлялся задолго до 2022 г. и казалось, что есть возможность преодолеть имевшиеся трудности, связанные, главным образом, с санкционными ограничениями. Полагаю, что указанное заявление представителя Минпромторга базировалось именно на тех планах. Теперь же, в условиях жестких тотальных ограничений на поставку оборудования для микроэлектроники, из-за которых даже китайские компании, как правило, не рискуют в открытую сотрудничать с российскими, этот срок будет передвинут на неопределенное время. При этом считаю, что, несмотря на все сложности, эта цель должна оставаться приоритетной для России, поскольку только идущий может осилить дорогу.
Замечу также, что основанием для суждения о неактуальности создания собственных установок литографии с экстремальным ультрафиолетом (EUV) является отсутствие у нас всего остального оборудования для уровней технологий 16–14 нм и ниже, для которых актуально применение EUV. Эти разработки еще не начались, так как для их реализации собственными силами необходимо пройти предыдущие уровни, набраться опыта, добиться положительных результатов и преодолеть ошибки. Кроме того, 28-нм технология осуществляется без помощи EUV-литографов – используются литографы, работающие с длиной волны 193 нм.

Литография в домашних условиях

Интервью с Николаем Алексеевичем Шелепиным, д.т.н., руководителем научного направления микроэлектроники, Институт нанотехнологий микроэлектроники РАН, в ежегоднике "Живая электроника России 2025"

В одном из своих недавних интервью вы высказали мысль о том, что для удовлетворения насущных потребностей российского рынка микроэлектронным компаниям не требуются самые современные фотолитографы – достаточно освоить диапазон от 180 до 40 нм и создать задел на будущее. Как в этой связи вы относитесь к заявлению представителя Минпромторга на форуме «Микроэлектроника 2023» о том, что к 2027 г. в России будет освоено серийное производство микропроцессоров по 28-нм нормам на 300-мм пластинах?

-Судя по многочисленным сведениям, почерпнутым из СМИ, план освоения 28-нм технологии на пластинах диаметром 300 мм в 2027 г. действительно существовал и имел основания на успех. Этот план составлялся задолго до 2022 г. и казалось, что есть возможность преодолеть имевшиеся трудности, связанные, главным образом, с санкционными ограничениями. Полагаю, что указанное заявление представителя Минпромторга базировалось именно на тех планах. Теперь же, в условиях жестких тотальных ограничений на поставку оборудования для микроэлектроники, из-за которых даже китайские компании, как правило, не рискуют в открытую сотрудничать с российскими, этот срок будет передвинут на неопределенное время. При этом считаю, что, несмотря на все сложности, эта цель должна оставаться приоритетной для России, поскольку только идущий может осилить дорогу.
Замечу также, что основанием для суждения о неактуальности создания собственных установок литографии с экстремальным ультрафиолетом (EUV) является отсутствие у нас всего остального оборудования для уровней технологий 16–14 нм и ниже, для которых актуально применение EUV. Эти разработки еще не начались, так как для их реализации собственными силами необходимо пройти предыдущие уровни, набраться опыта, добиться положительных результатов и преодолеть ошибки. Кроме того, 28-нм технология осуществляется без помощи EUV-литографов – используются литографы, работающие с длиной волны 193 нм.

hottg.com/lithography1mm/267

8.0K viewsMay 14 at 13:33